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知识产权工作成绩斐然,连获三项发明专利授权
Date:2021/9/28 浏览人数:190

 知识产权工作成绩斐然,连获三项发明专利授权

 

近日中晶科技自主发明的“一种制备纳米光栅的装置和方法”通过国家知识产权局审核,取得发明专利授权(专利号ZL2017 1 0253240.6)。该项发明专利为公司今年以来取得的第三项发明专利,同时取得实用新型专利授权5项,并在国内核心科技期刊发表EI论文1篇。

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今年来,中晶科技始终坚持将技术创新作为企业发展的核心推动力,全面贯彻知识产权工作新发展理念,持续加强知识产权创造、运用、保护正是由于公司在新技术、新产品研发发明的新颖性、创造性和实用性突出,才能在不到一年时间内接连获得三项发明专利授权。截止目前,公司已累计取得各类专利27


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