中晶科技 持续创新再获一项发明专利

近日，中晶科技又一项发明专利获得国家知识产权局授权。此项发明专利名称为：“一种图形化蓝宝石衬底的光刻方法”，发文序号为：2023062800321690。该项专利是公司今年以来获得的第二项发明专利授权。

图为 专利授权通知书

该发明涉及光刻工艺提升变革技术领域，该方法在光刻工段的成功应用，使得生产产品的光刻速率显著提升，辅材用量明显下降，在实现节材降耗的基础上有效提升了产品质量的稳定性。

近年来，公司始终把自主创新视为企业发展壮大的关键，不断推陈出新。公司现有专利授权37项，其中发明专利授权7项，知识产权质量不断提升。

后续，中晶科技将继续大力推进技术研发，进一步丰富企业知识产权矩阵，提升公司核心竞争力。